恭喜先進薄膜製程學士學位學程李文仁老師
申請「原子層沉積設備之研製」計畫獲得教育部區產中心計畫補助
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技術合作組 李文仁 組長 分機:14100、33466 研究室:理學大樓205教室 e-mail:wenjenlee@mail.nptu.edu.tw |
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學歷: 國立成功大學材料科學與工程系博士 經歷: 一、國立屏東大學先進薄膜製程學士學位學程專案助理教授兼研發處技合組組長。 二、國立屏東教育大學先進薄膜製程學士學位學程專案助理教授。 三、南台科技大學光電工程系兼任講師。 四、空軍航空技術學院飛機工程系兼任講師。 五、勞委會職訓局台南職業訓練中心太陽能電池技術課程外聘講師。 六、遠東科技大學電機系、電子系、光電系兼任講師。 七、東方技術學院電子與資訊系兼任講師。 八、南台科技大學光電半導體中心技佐。 九、瀚宇彩晶股份有限公司故障分析工程師。 十、奇美電子股份有限公司薄膜工程師。 十一、安定國小自然科代課老師。 十二、日商天田股份有限公司南部技術支援中心客服工程師。 榮譽: 2013年獲選為中華民國斐陶斐榮譽學會榮譽會員。 學術服務: 擔任美國化學學會期刊 Journal of the American Chemical Society (SCI期刊) 論文審查委員。 擔任美國化學學會期刊 Journal of Physical Chemistry C (SCI期刊) 論文審查委 員。 擔任ELSEVIER出版期刊 Materials Letters (SCI期刊) 論文審查委員。 擔任ELSEVIER出版期刊 Applied Surface Science (SCI期刊) 論文審查委員。 擔任Hindawi出版期刊 Mathematical Problems in Engineering (SCI期刊) 論文審 查委員。 執行計畫: 1.以原子層沉積法於FTO透明導電基板成長TiO2薄膜之特性研究及其應用於紫外光偵 測器之元件特性探討 (計畫編號:NSC102-2218-E-153-001,經費來源:國科會, 計畫金額:92萬元,執行期間:2013/10/01~2014/09/30,擔任計畫主持人) 2.以原子層沉積法於FTO透明導電基板成長TiO2薄膜之特性研究及其應用於紫外光偵 測器之元件特性探討(II) (計畫編號:MOST 103-2221-E-153-001,經費來源:科 技部,計畫經費:108.3萬元,執行期間:2014/08/01~2015/07/31,擔任計畫主 持人) 學術著作: SCI期刊論文(*號為通訊作者) 1. J. H. Lee, S. Y. Tsai, W. J. Lee, M. H. Hon, I. C. Leu*, “Fabrication of Three- Dimensionally Structured Titanium Oxide Thin Films by Transfer Printing”. J. Am. 2. Ceram. Soc. 95 (2012) 165. (IF: 2.107) 2. W. J. Lee*, M. H. Hon, “An ultraviolet photo-detector based on TiO2/water solid-liquid heterojunction”. Appl. Phys. Lett. 99 (2011) 251102. (IF: 3.794) 3. W. J. Lee*, M. H. Hon, Y. W. Chung, J. H. Lee, “A three-dimensional nanostructure consisting of hollow TiO2 spheres fabricated by atomic layer deposition”. Jpn. J. Appl. Phys. 50 (2011) 06GH06. (IF: 1.067) 4. W. J. Lee*, M. H. Hon, “Space-limited crystal growth mechanism of TiO2 films by atomic layer deposition”. J. Phys. Chem. C 114 (2010) 6917. (IF: 4.814) 5. H. E. Cheng*, W. J. Lee, C. M. Hsu, M. H. Hon, C. L. Huang, “Visible light activity of nitrogen-doped TiO2 thin films grown by atomic layer deposition”. Electrochem. Solid State Lett. 11 (2008) D81. (IF: 2.010) 6. H. E. Cheng*, W. J. Lee, “Properties of TiN films grown by atomic-layer chemical vapor deposition with a modified gaseous-pulse sequence”. Mater. Chem. Phys. 97 (2006) 315. (IF: 2.072) 7. H. E. Cheng*, W. J. Lee, C. M. Lee, “The effect of deposition temperature on the properties of TiN diffusion barriers prepared by atomic layer chemical vapor deposition”. Thin Solid Films 485 (2005) 59. (IF: 1.604) 國內期刊論文 1.鄭錫恩,李文仁,「原子層沉積技術及其應用」,電子月刊,140期 (2007) pp. 144-158。 國際研討會論文 W. J. Lee*, H. C. Yang, S. Y. Tsai, J. H. Lee, “TiO2 nanorod array based TiO2/water solid-liquid heterojunction ultraviolet photo-detectors”, International Union of Materials Research Societies- The IUMRS International Conference in Asia 2014 (IUMRS-ICA 2014), paper no.: C8-P28-031, Fukuoka, Japan. (Poster Presentation)
W. J. Lee*, H. C. Yang, S. Y. Tsai, J. H. Lee, “The characteristics of TiO2 films grown on FTO-glass substrates by atomic layer deposition”, International Union of Materials Research Societies- The IUMRS International Conference in Asia 2014 (IUMRS-ICA 2014), paper no.: C8-P28-030, Fukuoka, Japan. (Poster Presentation) W. J. Lee*, W. R. Chang, J. C. Tsai, M. H. Hon, “Influences of post-annealing on UV-detection properties of TiO2 nanorod array”, 2013 International Electron Devices and Materials Symposium (IEDMS 2013), paper no.: P2-64, Nantou, Taiwan. (Poster Presentation) W. J. Lee*, M. H. Hon, J. C. Tsai, J. H. Lee, “Visible-blind solid-liquid heterojunction ultraviolet photodetector based on an active layer of TiO2 nanorod array grown by hydrothermal process”, 2012 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2012), paper no.: PS-7-11, Kyoto, Japan. (Poster Presentation) W. J. Lee*, M. H. Hon, Y. W. Chung, J. H. Lee, “3D Nanostructure consists of hollow TiO2 spheres fabricated by atomic layer deposition”, 2010 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2010), paper no.: 11D-8-75, Fukuoka, Japan. (Poster Presentation) W. J. Lee*, M. H. Hon, “Effects of crystal structure and nitrogen doping on photoelectric properties of TiO2 films grown by atomic layer deposition”, 2009 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2009), paper no.: 18B-5-5, Sapporo, Japan. (Oral Presentation) H. E. Cheng*, W. J. Lee, and Tien-Chai Lin, “Structure and lattice parameters of TiN films grown by atomic-layer deposition”, 2005 International Symposium on Nano Science and Technology (ISNST 2005), Tainan, Taiwan, P125. (Poster Presentation) H. E. Cheng*, W. J. Lee, and Tien-Chai Lin, “Oxidation resistance of atomic-layer deposited TiN films on thermal SiO2”, International Union of Materials Research Societies- The IUMRS International Conference in Asia 2004 (IUMRS-ICA 2004), Hsinchu, Taiwan. (Poster Presentation) H. E. Cheng, W. J. Lee*, “The characteristics of TiN films grown by atomic layer chemical vapor deposition”, 2003 International Symposium on Nano Science and Technology (ISNST 2003), Tainan, Taiwan, P56. (Oral Presentation) 國際研討會論文 1.W. J. Lee*, W. R. Chang, C. C. Chen, C. R. Lin, M. H. Hon, “TiO2/water solid-liquid heterojunction ultraviolet photodetector constructed from TiO2 nanorod array grown by hydrothermal synthesis”, 2014 物理年會,論文編號P2-OE-087,台中,台灣。(Poster) 2.鄭錫恩,李孟融,李文仁,洪敏雄,「原子層沉積氮摻雜二氧化鈦薄膜之微結 構、能隙及光電流特性研究」,2007能源與光電薄膜科技研討會,論文編號#2- 8,台北,台灣。(Poster) 3.林俊宇,黃啟禎,鄭錫恩,李文仁,「氧氣氛退火對反應式射頻磁控濺鍍法成長 氧化鐵薄膜之特性影響」,2005年鍍膜年會,論文編號AP -22,南投,台灣。 (Poster) 4.郭浩銘,李文仁,鄭錫恩,「以原子層化學氣相沉積法成長氮化鈦薄膜之Cu擴散 阻障特性研究」,2004年材料年會,論文編號PB 4-25,新竹,台灣。(Poster) 5.鄭錫恩,徐煌捷,鈕亦樞,李文仁,「改良式氣體脈衝對原子層化學氣相沉積氮 化鈦薄膜特性之影響」,2004年材料年會,論文編號PB 4-30,新竹,台灣。 (Poster) 6.鄭錫恩,李文仁,「以原子層化學氣相沉積法製備氮化鈦薄膜特性研究」,2003 年電子元件暨材料研討會(EDMS),pp.13-16.,基隆,台灣。(Oral presentation) 7.鄭錫恩,李文仁,毛健棠,「即時退火與沉積後退火對反應濺鍍氧化鉭薄膜結構 與電性之影響」,2003年材料年會,論文編號PL-004,台南,台灣。(Poster) 8.李孟融,李文仁,鄭錫恩,「原子層沉積氮摻雜TiO2薄膜之特性研究」,2006年 材料年會,論文編號P04-085,台南,台灣。(Poster) |
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